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IT정보 ASML社에서 차세대 EUV 리소그래피 장치를 개발中

작성자: 마라톤 조회 수: 76 PC모드

ASML의 앤서니 (Anthony Yen) 부사장 은 ASML 이 오늘날의 시스템이 한계에 이르면 실리콘 칩의 기능을 계속 축소 할 필요가 있다고 생각하는 극한의 자외선 리소그래피 기계의 개발을 시작했다고 밝혔다.

ASML 5000은 Intel, Samsung, TSMC 등의 고객이 현재 사용하고있는 3400 시리즈보다 진화 된 많은 개선 사항에 의존합니다. 가장 눈에 띄는 것은 오늘의 0.33에서 0.55로 장비의 개구 수가 증가 할 것이라고 엔은 샌프란시스코에서 IEEE 국제 전자 장치 회의 (International International Electron Device Meeting)의 엔지니어에게 말했다 . Numerical aperture는 빛이 얼마나 집중 될 수 있는지와 관련된 무 차원 양입니다. 높은 개구 수는 더 나은 해상도를 의미합니다. EUV 기계의 개구 수를 변경하려면 더 크고 더 완벽하게 연마 된 이미징 미러 세트가 필요합니다.

자세한 내용은 출처 확인 하세요.

출처:https://spectrum.ieee.org/nanoclast/semiconductors/devices/asml-developing-next-gen-euv-lithography

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